EUV

Новости

Статьи

Компания Intel заказала у ASML первую в отрасли систему Twinscan EXE:5200 Это система для EUV-литографии в серийном производстве полупроводниковой продукции 38 19 января 2022 · 22:53

Samsung начинает массовое производство 14-нанометровой памяти DRAM DDR5 с применением EUV Новый пятиуровневый процесс EUV обеспечивает самую высокую в отрасли плотность хранения 3 12 октября 2021 · 13:06

У ASML готовы пелликулы для EUV-литографии Их появление должно ускорить освоение норм 7 нм и менее в серийном производстве 3 24 марта 2021 · 08:47

Крупный производитель микросхем памяти закупит оборудование для EUV-литографии на сумму 4,34 млрд долларов Контракт рассчитан на пять лет 2 24 февраля 2021 · 12:54

Samsung начинает серийный выпуск чипов памяти LPDDR5 DRAM плотностью 16 Гбит Это первая в отрасли оперативная память LPDDR5 DRAM, изготовленная по технологии 10-нанометрового класса третьего поколения (1z) 5 30 августа 2020 · 10:47

Imec и ASML показали получение линий с шагом 24 нм с использованием EUV-литографии с одной экспозицией Этот прорыв необходим для успешного освоения норм 3 нм 7 25 февраля 2020 · 11:27

На новой производственной линии Samsung Electronics начат серийный выпуск продукции с применением EUV-литографии Эта линия выпускает продукцию по нормам 7 нм и менее 3 20 февраля 2020 · 15:39

TSMC начинает крупномасштабные поставки продукции, изготовленной с использованием техпроцесса N7+ Это первый техпроцесс EUV, освоенный в серийном производстве 7 08 октября 2019 · 10:33

У Samsung готова 7-нанометровая технология EUV Она превосходит обычную 7-нанометровую технологию по энергетической эффективности продукции 6 30 июня 2019 · 12:13

Huawei Kirin 985 может стать первой однокристальной системой, изготовленной с использованием EUV По имеющимся оценкам, это позволит увеличить плотность размещения транзисторов на 20% 13 20 марта 2019 · 15:57

Стало известно, у кого и когда Nvidia закажет выпуск первых GPU по технологии EUV Это произойдет довольно скоро 2 07 января 2019 · 06:48

В Intel «вполне удовлетворены» прогрессом в разработке 7-нанометрового техпроцесса Серийный выпуск процессоров Intel по 7-нанометровой технологии EUV запланирован на 2020 или 2021 год 30 07 декабря 2018 · 15:09

ASML надеется заработать больше, ощутив увеличение спроса на оборудование для EUV-литографии ASML повышает прогноз роста выручки 4 08 ноября 2018 · 20:16

Samsung начинает производство 7-нанометровой продукции с использованием EUV Техпроцесс 7LPP (Low Power Plus) позволяет уменьшить площадь кристалла, одновременно повысив производительность или уменьшив энергопотребление 55 18 октября 2018 · 11:11

Samsung будет использовать EUV в производстве датчиков изображения Вероятно, внедрение EUV в производстве датчиков изображения произойдет уже на этапе 22 нм 3 26 июня 2018 · 09:28

Globalfoundries и Samsung рассчитывают начать выпуск 14-нанометровых чипов до конца года Освоение EUV откроет путь к использованию 450-миллиметровых пластин 11 февраля 2013 · 08:00

Переход на 450-миллиметровые пластины может быть отложен на два года Массовое производство с использованием 450-миллиметровых пластин может начаться лишь в 2018 году 28 августа 2012 · 13:07

Samsung тоже инвестирует в разработку нового литографического оборудования ASML Samsung последовала примеру Intel и TSMC 27 августа 2012 · 18:48

ASML ведет переговоры о продаже акций компаниям Samsung и TSMC Samsung и TSMC могут рассчитывать на 10% акций ASML 11 июля 2012 · 12:56

Carl Zeiss получила два заказа на оборудование для литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне Список потенциальных заказчиков включает GLOBALFOUNDRIES, Intel, Samsung Electronics и TSMC 30 апреля 2012 · 08:00

ASML и IMEC продолжат совместную разработку оборудования для производства микросхем В ноябре 2011 года ASML установит в IMEC систему NXT1950i 11 октября 2011 · 14:27